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半導(dǎo)體應(yīng)用紅外測溫儀

更新：2023/11/28 12:19:32??????點擊：

品牌：???AST
型號：???

產(chǎn)品介紹

化學(xué)氣相沉積 (CVD) 工藝是一種涂層工藝,，它在加熱的基材表面使用熱誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)，試劑以氣態(tài)形式（CH4 和 H2 等離子體）提供,。

CVD 工藝在真空爐中進行,，溫度范圍為 600 至 2500 攝氏度。在此過程中,，將一片晶種薄片放置在密封室中并加熱到 800 攝氏度左右,。然后在該室中填充碳達到的氣體(CH4 &H2),，在這個過程中,，來自氣體的離子被解離，從而增加了石墨烯在襯底上的沉積,，即目標(biāo)晶種上的碳和氫等離子體,。

一片金剛石的種子放置于高溫高壓的密封容器中。容器里有甲烷等混合氣體,。通過微波,、激光或其它技術(shù)手段將氣體電離出等離子體，即把氣體中的分子電離后,，比較純的碳元素就附著于金剛石的種子表面,，逐漸地生長成晶體。晶體生長過程中,，溫度檢測是至關(guān)重要的,。實際是要檢測晶體表面的溫度而非等離子體的溫度（透過等離子體）。

該應(yīng)用程序的挑戰(zhàn)性部分是等離子體發(fā)射特定波長的紅外能量,，我們需要通過等離子體測量目標(biāo)的一致溫度,。 AST 提供基于非接觸式紅外的高溫計，可在等離子體透明的選定波長下工作。由于 CVD 是一個耗時的過程,，因此儀器的高精度和穩(wěn)定性至關(guān)重要,。

以色列AST(Accurate Sensors Technology)公司專門設(shè)計制作的CVD測溫儀，可以應(yīng)用于人造金剛石,、硅外延生長,、碳化硅晶體爐等，具有內(nèi)置溫度顯示,、模擬和數(shù)字輸出,、繼電器輸出和參數(shù)設(shè)置按鍵。它的傳感頭非常小,，安裝非常方便,。隨附的軟件 Infrasoft 可幫助用戶通過 RS 232 或 RS 485 在電腦中連續(xù)記錄過程數(shù)據(jù)。

	AST-EG系列
測量范圍（分段）	250 ~ 1800°C
發(fā)射率0.1～0.3%+1
重復(fù)性	讀數(shù)的0.1% + 1
主要應(yīng)用	退火,、軋鋼,、焊接、金屬加工,、鍛造等
瞄準(zhǔn)方式	激光
熱電偶輸出（選配）	—
信號處理	峰值保持及跟蹤保持
可選配件	安裝配件,、RS-232/ RS-485接口、其它的電纜長度