紅外高溫計在化學(xué)氣相沉積 (CVD) 應(yīng)用
化學(xué)氣相沉積 (CVD) 工藝是一種涂層工藝,,它在加熱的基材表面使用熱誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng),,試劑以氣態(tài)形式(CH4 和 H2 等離子體)提供
CVD 工藝在真空爐中進行,溫度范圍為 600 至 2500 攝氏度,。在此過程中,,將一片晶種薄片放置在密封室中并加熱到 800 攝氏度左右,。然后在該室中填充碳達(dá)到的氣體(CH4 &H2),在這個過程中,,來自氣體的離子被解離,,從而增加了石墨烯在襯底上的沉積,即目標(biāo)晶種上的碳和氫等離子體,。
該應(yīng)用程序的挑戰(zhàn)性部分是等離子體發(fā)射特定波長的紅外能量,,我們需要通過等離子體測量目標(biāo)的一致溫度,。 AST 提供基于非接觸式紅外的高溫計,可在等離子體透明的選定波長下工作,。由于 CVD 是一個耗時的過程,,因此儀器的高精度和穩(wěn)定性至關(guān)重要。
以色列AST(Accurate Sensors Technology)公司專門設(shè)計制作的CVD測溫儀,, 具有內(nèi)置溫度顯示,、模擬和數(shù)字輸出、繼電器輸出和參數(shù)設(shè)置按鍵,。它的傳感頭非常小,,安裝非常方便。隨附的軟件 Infrasoft 可幫助用戶通過 RS 232 或 RS 485 在電腦中連續(xù)記錄過程數(shù)據(jù),。
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